光刻輔助劑（Defect Reduction Rinse）製程 | 特用化學品大廠輸送半導體級高純度含氨液體 ：SEIKOW 無軸封泵浦 MET-050
【應用領域】
光刻輔助劑（Defect Reduction Rinse）製程 | 特用化學品大廠輸送半導體級高純度含氨液體：SEIKOW 無軸封泵浦 MET-050
隨著半導體製程技術不斷進步，線寬持續微縮，光刻製程對微粒與金屬污染的容忍度大幅降低。為有效控制缺陷率並抑制微污染生成，光刻輔助劑（Defect Reduction Rinse, DRR）被廣泛應用於清洗與表面處理等關鍵製程中。此類應用對於化學品的純度、輸送過程的潔淨性與穩定性均有極高要求。
光刻輔助劑屬於高純度含氨液體，對輸送設備的材質選用與設計結構要求甚高。為確保整體製程的化學液均勻性與穩定性，製程初始會先在高階粉末化學混合槽中進行預混，使粉體充分分散， 接著導入高階緩衝化學混合槽與高純度含氨液體進行精密比例調製。
此階段透過 SEIKOW 無軸封泵浦 MET-050 進行第一段輸送，將預混完成的高純緩衝液穩定輸送至後續製程環節。MET-050 採用無軸封設計，搭配高耐腐蝕內襯材質，能有效防止液體洩漏與金屬離子析出，大幅降低金屬汙染風險，並滿足半導體製程對極高潔淨度的嚴苛要求。
進入高階最終混合槽後，溶液將進行均質化與濃度微調，以完成最終製備。成品液體隨後再次由 MET-050 執行第二段輸送，穩定供應至填充站，作為後段晶圓製程的關鍵用液。
半導體泵浦 - SEIKOW LINING：SEIKOW 無軸封泵浦 MET-050 憑藉其連續運轉、高穩定輸送與零洩漏表現，在高純化學液輸送應用中展現卓越性能。不僅可顯著降低製程中斷風險，更有助於確保整體製程品質與提升良率。其優異的耐腐蝕性與無軸封構造，使其成為處理半導體級高純度含氨液體的理想解決方案，是支撐次世代微影製程穩定運作的關鍵設備之一。
【產品特色】
SEIKOW無軸封泵浦（鐵氟龍內襯泵/Teflon Lining Pump) MET-050 是一款專為中小流量、高腐蝕性液體輸送應用所設計的高效解決方案，兼具穩定性、耐蝕性與操作靈活性，廣泛應用於多種關鍵製程中。
MET-050 用於如電子半導體、化學加工、鋼鐵製程與廢液處理等對液體控制要求極高的產業環境。其泵體內襯採用高化學相容性的材質（PFA、PVDF 或 ETFE），具備卓越的抗腐蝕能力與熱穩定性，可長時間穩定運作於酸性、鹼性或具反應性之化學液體環境中，操作溫度最高可達 120°C。
在性能表現方面，MET-050 提供最大流量 400 L/min、最高揚程 30 m 的強勁輸送能力，能對應中大型系統中各單元之間的液體輸送需求，尤其適用於反應槽、脫水機、結晶系統與廢液處理設備等連續性製程關鍵節點。
此外，MET-050 採用模組化設計，結構簡潔，具備高效率運作特性，不僅能有效降低維護頻率與停機時間，也有助於提升整體產線穩定性與運作效率。其無軸封磁力驅動機構則能杜絕液體洩漏風險，進一步保障製程潔淨度與操作安全。
選擇 SEIKOW 無軸封泵浦 MET-050，即是為您的高腐蝕性製程導入更安全、更穩定、且更高效的液體輸送系統，為關鍵應用提供強而有力的支持。
★ 最大流量: 400 L/min
★ 最高揚程: 30 m
【品牌特色】
耐腐蝕獨家成型技術累積超過半世紀
SEIKOW創業於1952年日本兵庫縣明石市，72年來始於鑽研硬質PVC加工技術，爾後致力開發耐腐蝕性材料，如氟素樹脂：PTFE（即鐵氟龍/ Teflon）、PFA、ETFE、PVDF、以及PE、PP、FRP、鈦金屬（Ti）、碳化矽陶瓷（Sic）等，運用於各類耐腐蝕化學裝置及機器之製造。
耐腐蝕領域專業廣受業界信賴
SEIKOW專於研發、製造、銷售各類耐腐蝕化學裝置及機器，為半導體、化學、鋼鐵、醫療等各類型業界製程及廢棄物資源化處理所廣泛使用。
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